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在材料科學(xué)、微電子制造以及精密機械加工等多個領(lǐng)域，對表面微結(jié)構(gòu)的研究和分析至關(guān)重要。其中，凹坑的平均深度是一個關(guān)鍵參數(shù)，對于評估材料性能、產(chǎn)品質(zhì)量等具有重要意義。而三維形貌儀作為一種先進的測量分析儀器，在計算凹坑平均深度方面發(fā)揮著不可替代的...
膜厚測量儀是一款高精度、高重復(fù)性的機械接觸式精密測厚儀，可選配自動進樣機，更加準(zhǔn)確、高效的進行連續(xù)多點測量。測試原理：將預(yù)先處理好的薄型試樣的一面置于下測量面上，與下測量面平行且中心對齊的上測量面，以一定的壓力，落到薄型試樣的另一面上，同測量頭一體的傳感器自動檢測出上下測量面之間的距離，即為薄型試樣的厚度。膜厚測量儀基礎(chǔ)應(yīng)用：紙——各種紙張、紙板、復(fù)合紙板等的厚度測定；薄膜、薄片——各種塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度測定；擴展應(yīng)用：瓦楞紙板——瓦楞紙板的厚度測定；金屬片、硅片—...
納米壓痕儀是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級機械測試儀器。它測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個數(shù)量級的形變測量。該系統(tǒng)還可以測量聚合物，凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)（應(yīng)變率靈敏度）。模塊化選項可適用于各種應(yīng)用：頻率特定測試，定量刮擦和磨損測試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測試，擴展負載容量高達10N和自定義測試。納米壓痕儀主要適用于測量納米尺度的硬度與彈性模量，測量結(jié)果通過載荷及壓入深度曲線計算得出，無需應(yīng)用顯微鏡觀測壓痕面積。可被用于有機或無...
白光干涉儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進行數(shù)據(jù)處理與分析，并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)，從而實現(xiàn)器件表面形貌3D測量的光學(xué)檢測儀器。白光干涉儀可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等，提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)共計300余種2D、3D參數(shù)作為評價標(biāo)準(zhǔn)。目前儀器可廣...
接近式光刻機又名：曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。其工作方式是通過光的作用，將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上，然后顯影出圖形，最后經(jīng)過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。工作原理：接近式光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片...
光學(xué)輪廓儀是一種雙LED光源的非接觸式光學(xué)儀器，對樣品基本上沒有損害。視樣品選擇不同測量模式。相移干涉模式(PSI)主要用于測量光滑表面粗糙度；垂直掃描干涉模式(VSI)則可以做高度、寬度、曲率半徑，粗糙度的計測等。光學(xué)輪廓儀的測試原理：白色光經(jīng)分光板發(fā)射出特定波長的光。這種特定波長的光在雙光束干涉物鏡中，經(jīng)過分光板被分成兩束光，一束光照射到參照物表面，另一束光照射樣品表面，這樣得到的兩束反射光在相機上成像。將樣品表面的凹凸不平引起的光程差所獲得的干涉條紋信息轉(zhuǎn)換成高度信息，...